1、KafkaUtils.createDstream构造函数KafkaUtils.createDstream(ssc, [zk], [consumer group id], [per-topic,partitions] ) 使用receiv

加一timer控件，interval属性设为1，enabled设为false.设一全局变量L as long(如果圆咐不行就改为double)在程序开始的时候加一句timer1.enabled=true,在timer1事件中写上L=L+1.

福特探险者功放在右后尾灯侧。论原车音响的品质，福特探险者所配备的原车音响，无论音质还是动态等各方面，都确实有着提升空间，尤其如果车主本来就是hifi爱好者，追求高保真聆听体验，那么把爱车交给专业的汽车音响改装店，升级一套carhifi音响系

辐射是肯定的。不过是否影响怀孕就不了解了，如果怀孕的话建议远离辐射大的地方。如果接受的辐射过多孩子可能会有一定程度的影响。严重会畸形。你慎重考虑。对身体的影响暂时还不大。不过如果长时间的话也会积少成多发生质变。希望对你有帮助。家用服务器na

地球物理层析成像的前提是被探测的不良地质体（裂缝、滑坡、岩溶等地质灾害）与围岩体的波速、电磁吸收及电阻率存在明显物性差异。探测区域位于钻孔与钻孔或钻孔与平硐间。层析成像的目的是确定一个图像函数f(x,y），观测数据可以表示为沿路径 L的积分

是真空的，半导体主要是镀膜工艺，镀膜工艺需要在真空环境中进行。真空腔体是保持内部为真空状态的容器，真空腔体的制作要考虑容积、材质和形状。真空腔体是为减少了半导体应用中真空腔的个数而研发的一种结构，其晶圆容量几乎不变。真空腔体的内壁表面吸附大

近两年，我国半导体行业的发展速度很快，但和美国等 科技 巨头相比较，技术仍是落后别人，但是国内产生所自研的技术、设备都能达到世界领先水平。最成功的案例莫过于蚀刻机设备，国内芯片企业所自研的蚀刻机已打破海外的技术垄断。很多人都不清楚，蚀

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中微半导体5nm是误导性新闻。某网络媒体未经证实发布了关于 “当所有的巨头还在为10nm、7nm技术大肆进军的时候，中国中微正式宣布掌握5nm技术”的误导性新闻，后经多家媒体转载造成了不实信息的扩散。中微公司从未发布上述信息，也从未授权

目前半导体行业处境艰难，部分核心的芯片技术掌握在他国手中。国内每年付出高昂的代价从他国引进先进技术和核心部件以及产品。如今，伴随着进口方面受到限制，国产替代，自主创新迫在眉睫！ 伴随着 科技 力量的全球化普及，日新月异的 科技 核心技

是真空的，半导体主要是镀膜工艺，镀膜工艺需要在真空环境中进行。真空腔体是保持内部为真空状态的容器，真空腔体的制作要考虑容积、材质和形状。真空腔体是为减少了半导体应用中真空腔的个数而研发的一种结构，其晶圆容量几乎不变。真空腔体的内壁表面吸附大

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光刻机和刻蚀机的区别：刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进

是真空的，半导体主要是镀膜工艺，镀膜工艺需要在真空环境中进行。真空腔体是保持内部为真空状态的容器，真空腔体的制作要考虑容积、材质和形状。真空腔体是为减少了半导体应用中真空腔的个数而研发的一种结构，其晶圆容量几乎不变。真空腔体的内壁表面吸附大

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   真空，指某一个容器中不含有任何物质（现实生活中并不存在真正的真空），通常我们把低于正常大气压的容器状态就叫做真空状态。绝大多数半导体工艺设备都需要真空。   真空度，表示该容器中，气体的稀薄程度，通常用压力值表示。实际应用中，有绝

     蚀刻机主要应用于航空、机械、标牌工业中，可对各种金属和金属制品的表面蚀刻图纹、花纹、几何形状，并能精确镂空，也可对不锈钢进行蚀刻和薄板切割，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。      蚀刻指的是通过曝光制版、显影后，将

半导体封装件的制作方法及半导体封装件。该半导体封装件的制作方法包括。在第一晶片上形成分离层；在所述分离层上形成帽；使用衬垫键合所述帽和第二晶片；将所述第一晶片和所述帽分离，形成包括所述帽、所述衬垫和所述第二晶片的半导体封装件；其中，所述第二

中微半导体5nm是误导性新闻。某网络媒体未经证实发布了关于 “当所有的巨头还在为10nm、7nm技术大肆进军的时候，中国中微正式宣布掌握5nm技术”的误导性新闻，后经多家媒体转载造成了不实信息的扩散。中微公司从未发布上述信息，也从未授权