半导体行业用的氧化铈抛光剂大概的生产工艺

国内外报道显示，纳米氧化铈的制备方法有多种，其中室温制备或低温制备纳米氧化铈已有报道，如室温（湿）固相化学反应法、室温自蔓延法、超声雾化法。而利用化学共沉淀法制备过程中，通常会采用高温焙烧得到不同粒径的纳米结构。本人2010年报道了采用化学共沉淀法室温下利用CTAB和氯化铈合成氧化铈纳米颗粒，并相继通过实验用化学共沉淀法室温下得到氧化铈纳米棒，纳米颗粒和纳米棒混合结构。本实验方法具有实验设备简单，低成本，反应条件简单，反应过程易于控制，反应均匀且易合成不同形貌纳米氧化铈的优点，国内外文献中尚未见其它相同报道。 本发明制备的纳米氧化铈可广泛应用于汽车尾气净化催化材料、光催化剂、防腐涂层、气体传感器、燃料电池、离子薄膜、抛光材料等方面，为社会发展和经济建设带来了巨大的影响。 近年来，纳米结构的氧化铈在印染废水治理方面也获得了国内外研究者的广泛关注，利用本发明得到的纳米氧化铈结构处理染料刚果红废水，降解在常温常压下进行， *** 作工艺简单，降解速度快，条件容易控制，节能廉价。降解率达到95%以上，降解时间快（2-180 min左右），降解产物纯净（通过实验仪器分析，染料刚果红废水基本降解完全）等优点，国内外公开文献中未见其它相同报道。本发明能高效地治理染料刚果红废水，并可以循环利用，对生态环境和人类健康将产生极大的作用。

需要打磨和抛光，但是是在芯片电路做好后的最后实现。主要是将芯片层磨薄，去除一些不需要的厚度，为后端封装创造条件。多用到CMP技术 ，先在正面贴膜，把芯片电路保护起来，再把背面通过物理方式（高平坦转轮）磨掉一些厚度。至于砂纸是肯定不可能用到的。希望楼主理解

富士迈半导体打磨抛光岗位好。

富士迈半导体精密工业(上海)有限公司为鸿海企业集团朝半导体设备制造、LED节能照明应用及显示应用事业发展所成立的子公司。公司于2004年在上海松江西部科技园区设厂，2005年7月18日开业并正式营运。

公司以研发高性能材料为基础，应用精密加工、先进构装、尖端机电整合及自动化为核心技术，建立高整合性系统产品的设计、制造及销售的公司。

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