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半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分,在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs,同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物,分离和处理难度比较大。
半导体废气治理办法
半导体酸废气处理通常采用碱液体喷淋法,又称化学洗涤法。因液体自身具有的溶解特性,可以更好地捕捉沉降,溶解去除污染物,而达到大气排放标准,故喷淋法是半导体行业酸碱废气治理普遍采用的主要处理方法。
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半导体的排放物,比如说像一些有毒有害的废水呀之类的吧。半导体产品一般需要在表面镀金属氧化物的薄膜比如我以前所在的太阳能电池厂就是在二氧化硅板上镀一层氧化锌
锌还好点,要是用汞、镉之类的重金属
污染严不严重就不用说了
几十mg/L左右。半导体生产废水中的金属离子种类很多,主要有铜、镍、锡、铅、银等,一般浓度在几十mg/L左右。
半导体知识产权泛指FABIP,也即Fab+intellectualproperty源于Fab是集成电路的制造业产业链源头,Fab专注于晶圆的生产制造,而Fabless专注于Chip的设计,这就是分工。
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