求砷化镓对人体的危害

（gallium

arsenide）化学式

GaAs。黑灰色固体，熔点

1238℃。它在600℃以下，能在空气中稳定存在，并且不为非氧化性的酸侵蚀。砷化镓可作半导体材料，性能比硅更优良。它的禁带宽度大，电子迁移率高，介电常数小，能引入深能级杂质，电子有效质量小，能带结构特殊，具有双能谷导带，可以制备发光器件、半导体激光器、微波体效应器件、太阳能电池和高速集成电路等，广泛用于雷达、电子计算机、人造卫星、宇宙飞船等尖端技术中。

在它的化学性质来看，人体是个氧化弱碱性物质，是不会受到侵蚀非常稳定的，它不会辐射，成品后主要是粉尘碎末接触，工厂的防护措施应该可以避免。千万不要自己吓唬自己，别等着本来没事，吓出毛病来就不好了。祝你健康开心~

砷化镓制程除了使用砷化镓基板本身材质含砷化合物外，诸如砷化镓磊晶制程作业过程并使用砷化氢（100％气体，砷化镓作业过程与设备维修保养过程等，均有砷暴露之潜在危害。长期暴露于砷之下会引起各种慢性危害效应的产生。引起色素沉着（hyperpigmentation)与角质化(hyperkeratosis)等皮肤病变，长期砷暴露并已被证实具有致癌性。如为急性砷化氢气体暴露包括头痛、虚弱、呕吐、恶心和腹痛。几个小时之后出现暗红色的尿液，在1至2天之内明显可见黄疸、腹痛、血尿。砷化氢气体中毒的系统包括肺脏；生殖泌尿道、和造血系统。因此对于砷化镓制程作业人员各项安全防护则格外重要，除了现场使用气体侦测器预防砷化氢外泄提早警报外，作业过应避免与含砷物质经由皮肤直接接触，防护具必须确实使用，妥善处理砷废弃物及作业人员接受危害辨识、认知与预防之育训练，由个人防护及作业环境管理与预防才可杜绝作业人员砷暴露的发生。

废气介绍：由于半导体工艺对 *** 作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类：酸性废气、碱性废气、有机废气和有毒废气。

废气危害：半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的处理进行排放，将造成严重的问题，不仅影响人们的身体健康，恶化大气环境，造成环境污染的公害事件等，也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。

处理方法：依据这些废气的特性，在处理上采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法，针对不同污染物，可采取以下综合处理方法：1.一般排气系统 2.酸性、碱性废气处理系统 3.有机废气处理系统