对于DFB半导体激光器，布拉格光栅做在有源层上面，但是发光、出光是在有源层，为什么布拉格能达到选频的效

1、严格来讲，加电情况下有源层内发生受激辐射发光，出光则是在波导层范围内（即上下波导层再加上有源层）

2、光栅是被刻蚀在波导层范围内，当光在整个波导层传播时，会受到光栅的周期性势场的影响，产生相干，其选频原理与DBR中光栅原理相同。

目前市面上有的光栅按种类分为：刻划光栅、全息光栅、等离子刻蚀光栅

下面我们主要按照种类来一一介绍它们的优缺点：

1、 刻划光栅：用钻石刻刀在涂薄金属表面机械刻划而成。这类光栅一般刻线数不会太高，普遍为20g/mm到1800g/mm之间，光谱范围覆盖广，当光谱范围超过1500nm时，基本只能采用刻划光栅。由于刻划光栅制作工艺的原因，生产一片原刻光栅（母光栅）成本较高，因此衍生出复制光栅，复制光栅是通过母光栅复制而成的，性能上会稍差于原刻光栅。刻槽形状主要有以下几种：

刻划光栅的优点是衍射效率高，特别是在其闪耀角的波长上，衍射效率甚至能达到80%-90%。缺点是存在鬼线和高杂散光，主要产生的原因是因为在光栅制作中，刻划的时候存在周期性失误或者是刻划失误。

刻划光栅基本都是平面光栅

2、 全息光栅：由激光干涉条纹光刻而成。这类光栅刻划线能做的非常高，普遍为150g/mm到3600g/mm之间，当然也有很多特殊运用需要6000g/mm甚至更高，但是却不能做得很低刻线，因此全息光栅光谱范围比较适用于紫外可见近红外范围，大于1200nm基本不适用。

全息光栅的优点是刻线数能做得很高，适用于高分辨率要求的运用，同时它没有鬼线，杂散光也非常低，非常适合拉曼、荧光等运用。缺点是衍射效率低。

全息光栅有平面光栅，也有凹面光栅

3、 等离子刻蚀光栅：第三代光栅，是在全息光栅的基础上，通过等离子刻蚀出闪耀角而成。因此其具有刻划光栅的高衍射效率，也具有全息光栅无鬼线，低杂散光的优点，但是由于它是在全息光栅的基础上刻蚀得到的，所以这种光栅的刻数线也做不了太低，因此它适合的光谱范围，也是紫外可见近红外范围。

那么我们清楚了每类光栅的优缺点之后，到底如何选择一款适合自己的光栅呢？

A、最先需要考虑的就是光谱范围，根据光谱范围大致选择需要哪类光栅，比如你关注的光谱范围有大于1500nm的，那么毫无疑问，你只能选择刻划光栅。

B、其次是根据您关注的波长，选择闪耀波长，刻划光栅和等离子刻蚀光栅都有闪耀波长。

C、然后是根据光谱仪焦长，考虑分辨率，即光栅的刻数线。刻数线越高，分辨率越高。

D、最后考虑的是光栅效率，即衍射到给定级次的单色光与入射单色光的比值。光栅效率愈高，信号损失愈小，为提高此效率，除提高光栅制作工艺外，还采用特殊镀膜，提高反射效率，比如镀金等。

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