不是的,最高浓度是级别PPB
达到99%以上,
估计每道工序用到的HF的浓度可能不一样,所以统一采购高浓度的然后自己配,节约成本
市售浓HF一般为49%,通过自己兑入DIW稀释成自己所要的浓度,大大节约了成本!
HF酸有99%这么高的浓度吗?HCl酸最高也就37%了!
成本?运费?毕竟水很便宜
不意思,是我弄错了,是采购的49%浓度.
我们这采购的是森田化学的,
99%,吓我一跳!还以为我化学白学了呢,49%的氢氟酸我们使用的是苏州晶瑞的,江阴化学试剂厂的也有。
有的时候用BOE来替代稀释好的HF
HF的最大浓度为49%左右,超过了这个浓度,溶液会发烟雾的;
半导体中的HF主要用来作为刻蚀液,或与其他酸液配比成混合刻蚀液,均用的是49%HF;仅在少数需要用到BOE的工艺中,才将其稀释。
且HF酸的稀释,不似浓硫酸,也比较方便。
你们采购这些这么高浓度1、成本
2、使用化学品要通过监察部门批准,能浓度高点,少采购点是有好处的
3、高浓度的在工厂里可以任意调节浓度,你不可能只用一种浓度,如湿法硅腐蚀液,一半直接用高浓度+HNO3,不添加水的!!!
新人学习中~~·
1. 要稀的就是花钱买纯水。而大部分工厂都自有纯水装置的,纯水质量也有保障。
2. 设备也是要投资的。要看规模效应够不够,投资是否有意义。
一般都是安装纯水设备生产纯水,然后自己稀释
成本控制一切。听运行人员说价格问题,而且不同比例的买起来也很不方便
Q: 半导体中乙醇酸和氢氟酸混合作用 :乙醇酸和氢氟酸混合可以用来清洗半导体表面。当这两种酸混合在一起时,它们会发生反应,产生氟化物,并形成一层薄膜,从而起到清洁的作用。乙醇酸有助于去除污垢,氢氟酸可以去除金属的氧化物。此外,乙醇酸也可以帮助去除金属的氧化物,使金属表面光滑。因此,乙醇酸和氢氟酸混合可以有效地清洁半导体表面,从而使半导体元件具有良好的性能。
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