中国5纳米光刻机突破,中国5nm光刻机概念股

图为光刻机

目前中国在半导体领域内受到了美国的制裁，国内多家科技企业都遭到了影响，主要原因是中国还没能自行研发出高性能光刻机，但前不久一个好消息传来，国内一个科研团队研究出了一种新的芯片制造技术，不用光刻机，也能让中国公司照样制造5纳米级别的高性能芯片，引发了广泛的关注，据称这一技术名为纳米压印技术，简单来说就是制造一个尺寸在纳米级别的雕版印刷版，然后用它在晶圆上印刷制造电路，那么这个“雕版印刷术”能否让中国突破壁垒呢？有西方专家认为，中国这次或许要找到破局办法了。

图为光刻机

为了获得最强大的性能，现代芯片已经发展到了堪称恐怖的地步，如今人类拥有的最高性能的芯片制程已经达到了5纳米级别，也就是说一块芯片上两根导线之间的距离最短只有5纳米，只有采用了如此先进制造技术的芯片才能具备最高的性能，而目前人类制造芯片的主流技术是光刻技术，也就是用紫外线和光刻胶在硅片表面蚀刻电路，目前中国还没能自行研发出高性能的光刻机，因此无法在国内生产高性能的芯片，才会遭受美国的制裁。

图为纳米压印技术雕版

而这次中国取得突破的纳米压印技术或许将成为中国破局的关键，据称这一技术是新近年来新出现的一种超精细结构加工技术，类似于中国古时发明的雕版印刷术，简单来说这一技术首先利用其他高精度加工设备，加工一个表面结构尺寸在纳米级别的压印雕版，然后用这个压印雕版在其他物质表面加工结构，而如果配合光刻胶和硅晶圆，它就可以在硅晶圆表面加工芯片电路，不使用光刻机也能制造高性能芯片。

根据中国科学家的说法，目前在实验室里中国科学家已经可以加工出表面结构尺寸10纳米级别的压印雕版，并用它在硅片表面蚀刻出复杂而精密的结构，加工精度甚至比10纳米级别的光刻机还要高，这样的精度已经可以用来制造一些性能较高的芯片，而现在中国科学家正在对这一技术进行更多测试，希望制造出尺寸更大的压印雕版，实现一次对一整片晶圆进行光刻。

图为纳米压印技术示意图

而西方专家也对中国科学家取得的成就非常关注，有西方专家认为这一技术一旦发展成熟，完全有可能成为和光刻机一样的高性能芯片制造工艺，中国科研团队和半导体公司利用这一技术可以轻松突破美国的光刻机封锁，制造出性能和西方一样强大的芯片，并且目前西方国家在这一领域内的研究还很不成熟，中国现在在纳米压印技术方面拥有最强大的实力，美国也无法再通过科技封锁的方式阻止中国技术的发展。

这一技术的出现给中国半导体产业带来了一针强心剂，可以预见一旦这一技术发展成熟，中国摆脱美国的半导体封锁就指日可待，虽然光刻机制造芯片的工艺成熟稳定，但光刻机的核心技术被美国垄断，中国需要花费大量资源才能攻克这一技术，而纳米压印技术完全有可能让中国实现弯道超车，美国再也别想封锁中国半导体产业发展了。