-
半导体的生产流程
半导体生产,包括半导体材料的生产、半导体器件的生产和半导体集成电路的生产等几个方面,不知道你指的是哪一个方面的生产。如果是半导体器件和集成电路的生产,则主要流程有切片、磨片、抛光、外延、氧化、光刻、扩散、蒸发、压焊、封装等步骤。希望对您有所
-
半导体行业芯片封装与测试的工艺流程
封装测试厂从来料(晶圆)开始,经过前道的晶圆表面贴膜(WTP)→晶圆背面研磨(GRD)→晶圆背面抛光(polish)→晶圆背面贴膜(W-M)→晶圆表面去膜(WDP)→晶圆烘烤(WBK)→晶圆切割(SAW)→切割后清洗(DWC)→晶圆切割后检
-
半导体行业芯片封装与测试的工艺流程
封装测试厂从来料(晶圆)开始,经过前道的晶圆表面贴膜(WTP)→晶圆背面研磨(GRD)→晶圆背面抛光(polish)→晶圆背面贴膜(W-M)→晶圆表面去膜(WDP)→晶圆烘烤(WBK)→晶圆切割(SAW)→切割后清洗(DWC)→晶圆切割后检
-
半导体行业芯片封装与测试的工艺流程
封装测试厂从来料(晶圆)开始,经过前道的晶圆表面贴膜(WTP)→晶圆背面研磨(GRD)→晶圆背面抛光(polish)→晶圆背面贴膜(W-M)→晶圆表面去膜(WDP)→晶圆烘烤(WBK)→晶圆切割(SAW)→切割后清洗(DWC)→晶圆切割后检
-
半导体的基础:何谓前道、后道工序工艺
前道主要是光刻、刻蚀机、清洗机、离子注入、化学机械平坦等。后道主要有打线、Bonder、FCB、BGA植球、检查、测试等。又分为湿制程和干制程。湿制程主要是由液体参与的流程,如清洗、电镀等。干制程则与之相反,是没有液体的流程。其实半导体制
-
半导体蚀刻机腔体是不是真空的
是真空的,半导体主要是镀膜工艺,镀膜工艺需要在真空环境中进行。真空腔体是保持内部为真空状态的容器,真空腔体的制作要考虑容积、材质和形状。真空腔体是为减少了半导体应用中真空腔的个数而研发的一种结构,其晶圆容量几乎不变。真空腔体的内壁表面吸附大
-
半导体行业芯片封装与测试的工艺流程
封装测试厂从来料(晶圆)开始,经过前道的晶圆表面贴膜(WTP)→晶圆背面研磨(GRD)→晶圆背面抛光(polish)→晶圆背面贴膜(W-M)→晶圆表面去膜(WDP)→晶圆烘烤(WBK)→晶圆切割(SAW)→切割后清洗(DWC)→晶圆切割后检
-
半导体行业芯片封装与测试的工艺流程
封装测试厂从来料(晶圆)开始,经过前道的晶圆表面贴膜(WTP)→晶圆背面研磨(GRD)→晶圆背面抛光(polish)→晶圆背面贴膜(W-M)→晶圆表面去膜(WDP)→晶圆烘烤(WBK)→晶圆切割(SAW)→切割后清洗(DWC)→晶圆切割后检
-
半导体行业芯片封装与测试的工艺流程
封装测试厂从来料(晶圆)开始,经过前道的晶圆表面贴膜(WTP)→晶圆背面研磨(GRD)→晶圆背面抛光(polish)→晶圆背面贴膜(W-M)→晶圆表面去膜(WDP)→晶圆烘烤(WBK)→晶圆切割(SAW)→切割后清洗(DWC)→晶圆切割后检
-
请问在半导体行业中那些生产需要用到抛光研磨减薄等工艺步骤?
抛光和研磨的步骤在传统半导体的封装中或是晶圆制造完后的加工工艺,工艺流程就叫研磨(grinding)和抛光(polish).所有的晶圆基本上都会经过研磨,但不一定都要抛光,只有要达到的厚度比较薄,或是对背面强度要求比较高的才会做抛光.封装测
-
半导体行业芯片封装与测试的工艺流程
封装测试厂从来料(晶圆)开始,经过前道的晶圆表面贴膜(WTP)→晶圆背面研磨(GRD)→晶圆背面抛光(polish)→晶圆背面贴膜(W-M)→晶圆表面去膜(WDP)→晶圆烘烤(WBK)→晶圆切割(SAW)→切割后清洗(DWC)→晶圆切割后检
-
半导体二极管的生产工艺流程
http:www.dxdlw.comshowpost.asp?threadid=11768不同用途的diode制造工艺有区别。有很多种工艺。备料→检查支架→清理模条→模条预热→发放支架→点胶→扩晶→固晶→固检→焊线→焊检→进入封胶站→
-
半导体中做设备DB,WB是什么意思!哪位大侠能解释一下!
DB就是把芯片通过胶黏贴到PCB板或别的什么东西上,WB就是通过一道工序,用设备把芯片和PCB通过金线,铝线,连接的过程,就是两道工序,但是这个是基础,也是核心,很重要,涉及到后续很多的异常和品质~~~~~封装测试厂从来料(晶圆)开始,
-
LED直插,固晶,焊线的流程以及所需要的物品!
LED工艺流程固晶站 原材料准备检查支架 清理模条模条预热发放支架点胶 扩晶固晶 固晶烤检烘烤焊线站 焊线焊线全检 点荧光粉烘烤封胶站胶水模条准备灌胶 支架沾胶 插支架 短烤离模 长烤后
-
半导体行业芯片封装与测试的工艺流程
封装测试厂从来料(晶圆)开始,经过前道的晶圆表面贴膜(WTP)→晶圆背面研磨(GRD)→晶圆背面抛光(polish)→晶圆背面贴膜(W-M)→晶圆表面去膜(WDP)→晶圆烘烤(WBK)→晶圆切割(SAW)→切割后清洗(DWC)→晶圆切割后检
-
半导体行业芯片封装与测试的工艺流程
封装测试厂从来料(晶圆)开始,经过前道的晶圆表面贴膜(WTP)→晶圆背面研磨(GRD)→晶圆背面抛光(polish)→晶圆背面贴膜(W-M)→晶圆表面去膜(WDP)→晶圆烘烤(WBK)→晶圆切割(SAW)→切割后清洗(DWC)→晶圆切割后检
-
半导体行业芯片封装与测试的工艺流程
封装测试厂从来料(晶圆)开始,经过前道的晶圆表面贴膜(WTP)→晶圆背面研磨(GRD)→晶圆背面抛光(polish)→晶圆背面贴膜(W-M)→晶圆表面去膜(WDP)→晶圆烘烤(WBK)→晶圆切割(SAW)→切割后清洗(DWC)→晶圆切割后检
-
湿敏物料为什么要烘烤
湿敏物料要烘烤的原因:对芯片进行除湿。IC、BGA等器件,被称为湿敏器件,其存储及烘烤都是根据IPC标准要求。采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后
-
GDP.CIP是什么意思?
GDP 即英文gross domestic product的缩写,也就是国内生产总值(港台地区有翻译为国内生产毛额、本地生产总值)。通常对GDP的定义为:一定时期内(一个季度或一年),一个国家或地区的经济中所生产出的全部最终产品和提供劳