7nm芯片迎来突破！国产半导体逆势崛起，打破日美垄断

一直以来，半导体行业都是国内产业生产的薄弱之处，很多技术都依赖于外企。

像EUV光刻机、芯片核心制造技术以及高端光刻胶等方面，但同样我们在芯片设计、封测技术等方面也占据了世界前列的位置。

如今，随着局势的变化，华为因芯片断供产生的后续影响已经初步显现，它让国产其他相关企业认识到只有自己掌握了核心技术才能避免在这些方面受到技术上的"卡脖子"。

11月13日，根据新浪 财经 最新报道，国内光刻胶领域迎来好消息，对于国内7nm芯片制造或可迎来重大突破。消息显示，国内宁波南大光电材料有限公司已正式宣布，首条ArF光刻胶生产线已经正式投入生产，预计项目完成后年销售额达10亿元。

目前该公司已经将生产出来的ArF光刻胶样品送至客户手中进行测试，如果测试成功，那么该公司将迎来更多ArF光刻胶方面的订单。

或许有小伙伴不太了解ArF光刻胶。

光刻胶在芯片生产中起到很关键的作用，可以说它是集成电路产生制造中的核心材料，对于芯片最终呈现的质量和性能方面都有很大的影响，因而光刻胶的成功对于生产制造芯片也有很大的帮助。

目前来说，虽然国内不乏有主营光刻胶的企业，但在ArF光刻胶这样的高端种类却几乎100%依赖于外企，而ArF光刻胶在对于28nm-7nm工艺芯片的生产起到至关重要的作用，因而可以说这一次在ArF光刻胶上的突破也预示着在7nm芯片制造上迎来突破！

根据资料显示，目前高端光刻胶主要集中于美企和日企手中，所占份额达全球光刻机份额的95%，而这一次宁波南大光电材料有限公司在ArF高端光刻胶中的突破也预示着国产半导体的逆势崛起，将打破美日企业在高端光刻胶领域上的垄断。

不过，想要避免外资企业在技术上的垄断，光靠一家公司明显后劲不足，但就如今的发展趋势来说，目前国产半导体相关企业已经纷纷在各自的领域中寻找突破之路。

上海微电子、上海华虹半导体、晶瑞股份等公司在芯片生产工艺上以及光刻机上等方面寻求突破口，照这样的趋势发展，未来国产半导体行业将迎来新生！

以TCL为代表的国产电视品牌在芯片方面布局多年，并且经过持续努力与研发，TCL在不久前正式成为了中国首家半导体芯片全产业链布局的企业，包括材料、设计、制造、应用等全部实现自给自足。这对于我国家电行业来说可是一个重大突破。

在此前贸易全球化的背景下，我国的半导体产业起步本身就比较晚，造成很多高新技术行业出现芯片被“卡脖子”的困境，特别是手机，国内更一度陷入了“缺芯少屏”的低迷境况。不过，随着诸如TCL这样不断探索求新、坚定奋进的中国企业，才能通过长期的产业布局、大量的资金投入，收获强大的技术研发实力，并在短期内成功完成一条完整的芯片产业供应链的建立，实现中国制芯新突破。

在去年，TCL中环的半导体抛光片、外延片累计出货量就已达380MSI，全球范围内的市占率提高至2.7%，展望未来，相信TCL会利用芯片制造全产业链的布局能力，进一步用创新驱动发展，为中国智造添砖加瓦，真正让中国芯走进千家万户、走向世界。

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