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半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分,在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs,同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物。
半导体有机废气处理办法
采用RTO设备处理
RTO蓄热式氧化炉是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水,净化废气,并回收废气分解时所释放出来的热量,废气分解效率达到99%以上,热回收效率达到95%以上。
直接燃烧法处理
有机废气风管废气收集→沸石转轮吸附浓缩→直燃炉(TO)→烟囱排气达标排放。
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1 工业废气用吸附剂系列产品产品 去除气体 形态 大小
Zebent HS 系列 H2S,硫醇及其衍生物 片状 8~10mm
ZeCO CO 片状 1.5~3mm
Zebent NH系列 NH3,胺类化合物 片状 7~10mm
应用领域:去除制造业、焚化炉和半导体、钢铁厂等领域产生的氨、硫化氢、氯化氢、一氧化碳等有害气体。
2 半导体产业废气用吸附剂系列产品
产品 去除气体
Zebent 1 系列 BCl3,BF3,Cl2,F2,HBr,HCl,HF,SiCl4
Zebent 2 系列 SiF4,SiH2Cl2等
Zebent 3系列 SiH4,Si2H6,TEOS,TMB,TMP等
Zebent 4系列 NH3等
Zebent 5 系列 AsH3,PH3,TEM,TEP,TMB,TMP等
Zebent 6 系列 BCl3,BF3,Cl2,F2,HCl,HF等
Zebent 7系列 BCl3,Cl2,ClF3,F2,HCl,SiCl4,SiF4等
Zebent 8 系列 TEB,TEOA,TEOS等
应用领域:用于半导体生产加工过程中产生的毒性及强腐蚀性为期。
3 空气净化用吸附剂系列产品
产品 形态 大小
Zebent DOV-1 系列 片状 3~4mm
Zebent DOV-2 系列 球状 3~5mm
Zebent DOV-3系列 球状 1~5mm
ZeCO-1 片状 1.5~3mm
ZeCO-2 球状 1~5mm
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